IBM と SCREEN、高NA EUV リソグラフィの洗浄契約で半導体製造の未来を拓く｜プレスリリース｜大日本スクリーン製造株式会社

株式会社SCREENセミコンダクタソリューションズ（本社：東京都港区、代表取締役社長：大西啓介）とIBM a. 引合.これらのパートナーは、それぞれの専門知識を活かして、次世代の高開口数（High Numerical Aperture：High-NA）極端紫外線（Extreme Ultraviolet：EUV）リソグラフィ用の新しい洗浄方法を開発します。半導体製造技術を向上させます。

日本の半導体製造を支えるもの

半導体産業はサブ2nmノードに移行しつつあります。このシフトには、精密で効率的な製造が必要です。高NA EUVリソグラフィは、こうしたニーズに応えるための鍵となります。これらのプロセスの高解像度と複雑さは、新たな課題をもたらします。ウェーハプロセス中のコンタミネーションとクリーニングの管理は非常に重要です。

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IBM and SCREEN are teaming up to tackle these challenges. They will create new cleaning technologies. These technologies will keep semiconductor devices strong and performing well at advanced nodes. IBM and SCREEN are teaming up. IBM will combine its semiconductor process skills with SCREEN’s advanced wafer cleaning tools. This partnership aims to create strong solutions for producing high-performance chips.

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What will be the Implications for Japan’s Semiconductor Industry

Japan has been a leader in making semiconductors. SCREEN Semiconductor Solutions helps improve process technologies. The deal with IBM boosts Japan’s edge in semiconductor innovation. The partnership enhances cleaning methods for High-NA EUV lithography. This boosts manufacturing in Japan’s semiconductor industry.

このパートナーシップは、日本の半導体エコシステム全体に影響を与えます。洗浄方法は歩留まりを高め、欠陥を減らし、製造を簡素化します。装置メーカーと半導体メーカーの双方にメリットがあります。このパートナーシップは日本の研究開発を後押しします。これにより、半導体技術の継続的な革新が促進されます。

世界の半導体情勢への広範な影響

TIBMとSCREENの合意は、世界の半導体業界をシフト。TIBMとスクリーンの合意は、世界の半導体業界を大きく変えます。半導体デバイスの小型化・複雑化に伴い、コンタミネーションの抑制が重要な課題となっています。新しい洗浄技術は、次世代チップの信頼性を高めます。

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IBMとSCREENが提携。今回の提携は、半導体製造技術を後押しするものです。人工知能、量子コンピューティング、ハイパフォーマンス・コンピューティングなどのアプリケーションを実現する鍵は、新たな進化にあります。

結論

IBM and SCREEN Semiconductor Solutions teamed up to change semiconductor manufacturing. This collaboration improves cleaning processes for High-NA EUV lithography. It greatly boosts precision and efficiency in making semiconductors. Japan’s focus on innovation and leadership in semiconductors is clear in this agreement.

急速に進化する半導体業界。IBMとSCREENのようなパートナーシップは、テクノロジーの未来を形作ります。IBMとSCREENのようなパートナーシップは、テクノロジーの未来を形作ります。また、さまざまな技術分野におけるイノベーションを促進します。