リガク、半導体分析用XHEMIS TX-3000を発売

株式会社リガクホールディングスのグループ会社で、X線分析システムソリューション開発のグローバルパートナーである株式会社リガクは、半導体デバイス製造工程におけるウェーハ表面の微量汚染分析を可能にする全反射蛍光X線分析（TXRF）装置「XHEMIS（ゼミス）TX-3000」を発表しました。

リガク は、TXRF技術を通じて、圧倒的な市場シェアを持つ分野である品質を保護します。
半導体デバイスの製造において、ウェハー表面の微量汚染物質の分析は不可欠です。

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ソース ビジネスワイヤー