株式会社レゾナックと国立大学法人横浜国立大学は、2025年4月21日、将来の半導体産業の発展に寄与する研究開発・人材育成を通じて、次世代半導体の技術・価値の向上を目指す包括連携協定を締結しました。
両社はかねてより協業関係にありましたが、この協業関係をさらに強化することで、協業の成果を通じて半導体産業と人材育成に貢献し、さらなる社会貢献を目指します。
本契約に基づく協力事項
次世代半導体に必要な材料の研究開発と社会実装
次世代半導体の先端研究を推進する人材交流・育成事業
その他この目的に資すると認められる事項
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レゾナックと横浜国立大学は、半導体後工程における材料・プロセスに関する研究・共創について協議してきました。
株式会社レゾナック世界トップクラスのシェアを誇る半導体材料を豊富に取り揃え、最先端の半導体後加工装置を備えた研究開発施設を有する旭化成ケミカルズ株式会社。また、「共創型化学企業」を企業ビジョンに掲げ、コンソーシアム活動にも積極的に取り組んでいます。 横浜国立大学 は、異種デバイスを集積する先端的なヘテロジニアス集積技術の研究開発において、国内外をリードする研究拠点の確立を目指し、2024年に先端研究所内に「半導体・量子集積エレクトロニクス研究センター」を設立します。両者の連携をさらに深めることで、半導体チップの高速化・低消費電力化を実現する新たな3次元実装技術の開発や持続可能なプロセス技術の構築など、様々な先駆的研究成果の創出や新技術の産業化を目指すとともに、横浜・川崎臨海部という研究拠点の立地を活かした実践的な人材交流・育成活動を展開していきます。
こうした新たな共創活動を通じて、社会に貢献することを目指しています。
ソース PRタイムズ
