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ヘキサテックは、紙の上では小さく見えますが、文脈からすると全く小さくはないものを発表しました。ヘキサテックは、直径3インチの窒化アルミニウム単結晶基板を正式に発表しました。これは76.2mm。この分野では、大きさは想像以上に重要です。.
3インチの基板はランダムではありません。移行ステップなのです。本当の目標は100mm素材です。しかし、一夜にしてそこに到達できるわけではありません。段階的にスケールアップしていくのです。2インチから3インチへの移行は、本格的な大量生産に向かうことを業界に伝えるマイルストーンのひとつです。研究室での作業ではありません。ニッチ生産でもありません。実際の規模です。.
窒化アルミニウムは、高電圧や高周波の電子機器に使用されています。これらの用途では性能が要求されます。熱管理。信頼性一貫性。基板が強固でなければ、その上に構築されるものすべてに支障が生じます。これが、単結晶PVT成長AlNが重要な理由です。. ヘキサテック このリリースはその姿勢を強化するものです。.
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現在、2インチと3インチの基板が標準的なリードタイムで入手可能です。ですから、これは将来の約束ではありません。準備はできています。.
全体像は明らかです。パワーエレクトロニクスの微細化。高周波システムは微細化しています。そして、材料もそれに追いつく必要があります。AlNの大口径化は単なる技術的なアップデートではありません。これは製造上のシグナルなのです。.
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